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二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥

二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界(jiè)4月24日消息,国(guó)家知识(shí)产(chǎn)权局局长申长雨在(zài)新闻(wén)发(fā)布会上表(biǎo二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥)示(shì),将统筹推进各(gè)类知(zhī)识产权法律(lǜ)法规和制度规则的制修订工作。其中,修改完善集(jí)成电(diàn)路布图设计保护条例(lì),适应大规模(mó)集成(chéng)电(diàn)路发展需要,助力芯片产业做大做(zuò)强,服务数字(zì)经(jīng)济(jì)更好发展(zhǎn)。

  加(jiā)强大数据、人工智能、基因(yīn)技术等新领(lǐng)域新业态(tài)知识产权(quán)规则研究,助力相关领域创新发展(zhǎn)。同时,积极参与知识产权国际规则制定,更好对接高标准国际经贸(mào)规则,助力(lì)高(gāo)水平对外(wài)开放。

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